美光宣布新建晶圓廠計劃

10月8日，報道稱美光科技在官網宣布，計劃在紐約州中部打造一個巨型晶圓廠，以促進存儲芯片的生產。

聲明中表示，將向一期項目投資200億美元，在克萊鎮新建一個巨型工廠，2023年開始場地準備工作，2024年開始施工，2025年實現量產，並在2026年-2030年間根據行業需求逐步增產。

聲明指出，這座工廠最終可能包含四個60萬平方英尺的潔淨室——半導體工業生產廠房，總計麵積能達到240萬平方英尺，規模接近40個橄欖球場的大小，創美國半導體行業曆史之最。

在未來20年，美光計劃向工廠總共投資高達1000億美元，能為當地創造約50,000個就業機會。在項目周期內，紐約還將為該工廠提供55億美元的資金激勵，支持工廠招聘和資本投資。

美光透露，紐約工廠將采用最先進的半導體製造工藝和工具，包括極紫外線（EUV）光刻技術，以鞏固公司在DRAM行業中的領先地位。

美光科技首席執行官此前表示，該工廠將生產廣泛用於數據中心、個人電腦和其他設備的DRAM芯片。